CVD法制备铝化物涂层装置沉积室内前驱体流场仿真设计研究

张博闻, 吴勇, 杨甫, 黄天纵, 孟施旭, 赵智鑫

材料保护 ›› 2021, Vol. 54 ›› Issue (5) : 1-6.

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材料保护 ›› 2021, Vol. 54 ›› Issue (5) : 1-6. DOI: 10.16577/j.cnki.42-1215/tb.2021.05.001
试验研究

CVD法制备铝化物涂层装置沉积室内前驱体流场仿真设计研究

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The Analogue Design Research of Precursor Gas Flow Field in the Deposition Chamber for Aluminide Coating Device Deposited by the CVD Method

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