镶嵌靶磁控溅射Cu-W薄膜的结构与力学性能

郭中正, 闫万珺, 张殿喜, 杨秀凡, 蒋宪邦, 周丹彤

材料保护 ›› 2024, Vol. 57 ›› Issue (3) : 166-174.

PDF(8164 KB)
Email Alert　 RSS
更多内容请点击
PDF(8164 KB)
材料保护 ›› 2024, Vol. 57 ›› Issue (3) : 166-174. DOI: 10.16577/j.issn.1001-1560.2024.0069
工艺篇

镶嵌靶磁控溅射Cu-W薄膜的结构与力学性能

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
作者信息 +

Structures and Mechanical Properties of Cu-W Thin Films Deposited by Mosaic Target Magnetron Sputtering

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
Author information +
文章历史 +

本文亮点

{{article.keyPoints_cn}}

HeighLight

{{article.keyPoints_en}}

摘要

{{article.zhaiyao_cn}}

Abstract

{{article.zhaiyao_en}}

关键词

Key words

本文二维码

引用本文

EndNote

Ris (Procite)

Bibtex

导出引用
{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2024, 57(3): 166-174 https://doi.org/10.16577/j.issn.1001-1560.2024.0069
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2024, 57(3): 166-174 https://doi.org/10.16577/j.issn.1001-1560.2024.0069
中图分类号：

参考文献

原文顺序 | 文献年度倒序 | 文中引用次数倒序

参考文献

{{article.reference}}

基金

版权

{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
PDF(8164 KB)

Accesses

Citation

Detail
段落导航
相关文章
ISSN 1001-1560　CN 42-1215/TB
主管部门：中国机械工业联合会
主办单位：武汉材料保护研究所有限公司
编辑出版：《材料保护》编辑部
网站版权 © 《材料保护》 编辑部
地址：武汉市宝丰二路126号　邮政编码：430030　
电话：027-83641679、027-83615846
E-mail: bjb@mat-pro.com
访问统计
总访问量
今日访问
在线人数
鄂ICP备16024097号-6　 技术支持：北京玛格泰克科技发展有限公司

/

〈 〉