Si3N4基底TiC薄膜的制备及其摩擦学性能的研究

王贺, 褚健翔, 闫广宇, 吴玉厚, 陈思博, 戴广远

材料保护 ›› 2025, Vol. 58 ›› Issue (8) : 147-154.

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材料保护 ›› 2025, Vol. 58 ›› Issue (8) : 147-154. DOI: 10.16577/j.issn.1001-1560.2025.0142
研究论文

Si3N4基底TiC薄膜的制备及其摩擦学性能的研究

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
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Study on the Preparation and Tribological Properties of TiC Thin Films on Si3N4 Substrates

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
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{{article.keyPoints_cn}}

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{{article.keyPoints_en}}

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{{article.zhaiyao_cn}}

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{{article.zhaiyao_en}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2025, 58(8): 147-154 https://doi.org/10.16577/j.issn.1001-1560.2025.0142
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2025, 58(8): 147-154 https://doi.org/10.16577/j.issn.1001-1560.2025.0142
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{{article.reference}}

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{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
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