α-SiHX过渡层沉积电压对钛合金管内壁多层Si-DLC薄膜性能的影响

doi:10.16577/j.issn.1001-1560.2026.0121

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材料保护 ›› 2026, Vol. 59 ›› Issue (8) : 60-71. DOI: 10.16577/j.issn.1001-1560.2026.0121

研究论文

α-SiH_X过渡层沉积电压对钛合金管内壁多层Si-DLC薄膜性能的影响

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Effect of α-SiH_X Interlayer Deposition Voltage on the Properties of Multilayer Si-DLC Films on the Inner Wall of Titanium Alloy Tubes

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ISSN 1001-1560　CN 42-1215/TB
主管部门：中国机械工业联合会
主办单位：武汉材料保护研究所有限公司
编辑出版：《材料保护》编辑部

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