离子源功率对HiPIMS制备氧化铝薄膜的调控效应及优化研究

doi:10.16577/j.issn.1001-1560.2026.0141

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材料保护 ›› 2026, Vol. 59 ›› Issue (9) : 99-106. DOI: 10.16577/j.issn.1001-1560.2026.0141

研究论文

离子源功率对HiPIMS制备氧化铝薄膜的调控效应及优化研究

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Control Effects and Optimization of Ion Source Power in HiPIMS Deposition of Alumina Thin Films

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ISSN 1001-1560　CN 42-1215/TB
主管部门：中国机械工业联合会
主办单位：武汉材料保护研究所有限公司
编辑出版：《材料保护》编辑部

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