高功率脉冲磁控溅射技术制备ta-C膜及性能改性研究

冯利民, 史敬伟, 何哲秋, 李建中, 石俊杰

材料保护 ›› 2024, Vol. 57 ›› Issue (7) : 23-29.

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材料保护 ›› 2024, Vol. 57 ›› Issue (7) : 23-29. DOI: 10.16577/j.issn.1001-1560.2024.0147
新型薄膜技术专栏

高功率脉冲磁控溅射技术制备ta-C膜及性能改性研究

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Preparation of ta-C Film by High-Power Impulse Magnetron Sputtering Technology and Its Performance Modification

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