偏压对HiPIMS制备TiAlSiN涂层结构与性能的影响

杜建融, 陶冠羽, 陈辉, 易娟, 万洪, 刘书洋, 张钰

材料保护 ›› 2024, Vol. 57 ›› Issue (7) : 30-42.

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材料保护 ›› 2024, Vol. 57 ›› Issue (7) : 30-42. DOI: 10.16577/j.issn.1001-1560.2024.0148
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偏压对HiPIMS制备TiAlSiN涂层结构与性能的影响

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
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Influence of Bias Voltage on Microstructure and Properties of TiAlSiN Coatings Prepared by HiPIMS

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
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{{article.keyPoints_cn}}

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{{article.keyPoints_en}}

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{{article.zhaiyao_cn}}

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{{article.zhaiyao_en}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2024, 57(7): 30-42 https://doi.org/10.16577/j.issn.1001-1560.2024.0148
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2024, 57(7): 30-42 https://doi.org/10.16577/j.issn.1001-1560.2024.0148
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{{article.reference}}

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{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
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