偏压对高功率脉冲磁控溅射AlTiSiN涂层结构与性能的影响

doi:10.16577/j.issn.1001-1560.2025.0186

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材料保护 ›› 2025, Vol. 58 ›› Issue (11) : 28-35. DOI: 10.16577/j.issn.1001-1560.2025.0186

硬质薄膜技术与表面防护专栏

偏压对高功率脉冲磁控溅射AlTiSiN涂层结构与性能的影响

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Effect of Bias Voltage on the Structure and Properties of AlTiSiN Coatings Deposited via High-Power Pulse Magnetron Sputtering

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