薄膜材料具有与块状材料不同的独特性能,其在厚度方向尺度很小,且在厚度方向上由于表界面的存在,使物质连续性发生中断。薄膜技术涉及的范围很广,包括以物理气相沉积和化学气相沉积为代表的成膜技术,以离子束刻蚀为代表的微细加工技术等。薄膜技术的应用范围极为广泛,从大规模集成电路、电子元器件、平板显示器、传感器、太阳能电池,到材料的表面改性等,涉及高新技术产业的各个方面。

以高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)为代表的高离化磁控溅射技术作为一种新的物理气相沉积技术,可以明显提高薄膜结构可控性,进而获得优异的薄膜性能,在国内外研究领域和工业界受到了广泛关注和重视。我国目前在新型薄膜技术领域与国际水平尚存在一定的差距,主要是镀膜装备技术方面存在较大差距,高端镀膜装备依赖进口,严重制约了我国具有自主知识产权的先进镀膜技术的发展,是亟需解决的卡脖子难题之一。

为此,《材料保护》编辑部特别开辟了“新型薄膜技术专栏”,诚邀国内部分在新型薄膜技术领域做出优异成绩的学者撰稿,集中展示新型薄膜技术领域的研究进展。期待通过专栏交流、深入讨论及与国际知名企业的对接等,进一步推动我国新型薄膜技术的发展。